Was istGefällte Kieselsäure?
Die technischen Parameter und die Beschreibung der Zusammensetzung von Kieselsäure nach der Fällungsmethode lauten wie folgt:
Chemische Zusammensetzung:
Der Hauptbestandteil ist Siliziumdioxid (SiO2) mit der chemischen Formel SiO2 · nH2O, das wie ein weißes, amorphes Pulver aussieht
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Die Reinheitsanforderung liegt in der Regel bei über 95 %, bei manchen Produkten können sogar über 98 % erreicht werden.
physische Eigenschaft:
Spezifische Oberfläche: im Allgemeinen zwischen 180-200 m²/g.
Durchschnittliche Partikelgröße: 7–10 Mikrometer.
Ölabsorptionswert: 2,3-2,5 cm³/g.
PH-Wert: 6,5-7,5.
Trocknungsreduzierung: nicht weniger als 4 %.
Verbrennungsverlust: nicht mehr als 8,5 %.
45-Mesh-Siebrückstände: Weniger als oder gleich 0,5 %.
Produktionsmethode:
Hergestellt durch Reaktion von Natriumsilikat mit Schwefelsäure, wird die Reaktion unter alkalischen Bedingungen in der flüssigen Phase durchgeführt
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Während des Produktionsprozesses ist es notwendig, Variablen wie Rohstoffqualität, Komponentenkonzentration, Temperatur, Reaktionszeit, pH-Wert und Rührgeschwindigkeit zu kontrollieren
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Anwendungsgebiete:
Weit verbreitet in Gummi, Kunststoff, Synthesekautschuk, Naturkautschukprodukten, Klebstoffen und anderen Bereichen
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Verbessern Sie die Leistung, Verschleißfestigkeit, Hochtemperaturbeständigkeit und Reißfestigkeit und verbessern Sie die dielektrischen Eigenschaften von Silikonkautschuk. Spielt eine füllende und verstärkende Rolle in Synthesekautschuk und Naturkautschuk.
Weitere Funktionen:
Hat eine gute elektrische Isolierung und chemische Inertheit, unlöslich in Wasser, Lösungsmitteln und Säuren (außer Flusssäure).
Bei verschiedenen Anwendungen können Parameter wie spezifische Oberfläche, Partikelgröße, Morphologie, Struktur und Porosität variieren
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Zusammenfassend lässt sich sagen, dass Siliciumdioxid nach der Fällungsmethode JS-95MP ein hochreines, poröses, amorphes Pulver mit hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften ist, das in zahlreichen Industriebereichen weit verbreitet ist.
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